Межрегиональный центр делового и профессионального образования

Учебная программа курса:

1. Введение.

1.1. Интерфейс.

1.2. Системы координат и типы проекций.

1.3. Основные инструменты редактирования (копирование, клонирование, массив, поворот, масштабирование).

1.4. Привязка и выравнивание объектов, группировка, создание цепочек объектов.

2. Сплайн-моделирование.

2.1. Параметрические и изменяемые сплайны, их подуровни и типы точек.

2.2. Основные модификаторы для преобразования двухмерных объектов в трехмерные с постоянным сечением (Extrude, Twist, Ripple, Melt).

3. Создание составных трехмерных объектов с переменным сечением методом лофтинга, булеановские операции над объектами.

4. Трансформация сегментированного трехмерного объекта с помощью основных модификаторов.

5. Основы полигонального моделирования.

5.1. Параметрические и изменяемые трехмерные объекты, их подуровни.

5.2. Основные методы частичного редактирования объекта на подуровнях ребер и полигонов.

6. NURBS-моделирование для создания несимметричных объектов.

6.1. Интеграция 3ds max и Z-brush.

7. Полигональное моделирование на подуровне точек.

7.1. Основные инструменты и особенности.

7.2. Мягкое выделение точек.

7.3. Скрипты и модификаторы для оптимизации работы с точками.

8. Полигональное моделирование на подуровне ребер.

8.1. Добавление и извлечение ребер.

8.2. Нюансы работы с ребрами и границами.

9. Сложное моделирование на подуровне полигонов, создание полигрупп.

10. Сложные модификаторы для трансформирования трехмерных объектов.

11. Особенности патч-объектов.

12. Создание систем объектов Particle Systems.

13. Понятие рендеринга и рендера.

13.1. Настройки.

13.2. Установка естественного освещения сцены вручную и с учетом географического положения.

13.3. Использование пресетов для контроля экспозиции.

13.4. Освещение отраженным светом.

14. Источники света.

14.1. Типы искусственных источников света.

14.2. Стандартные источники света и их настройка.

15. Библиотека материалов Mental Ray, управление библиотеками.

15.1. Понятие шейдера и процедурной карты.

15.2. Настройки растровой карты Bitmap.

15.3. Масштабирование и ориентация текстуры на объекте с помощью модификатора UVW-map.

16. Основные свойства материалов.

16.1. Плотность.

16.2. Отражение.

16.3. Прозрачность.

16.4. Рельеф.

16.5. Настройка свойств при создании материалов.

17. Обзор основных процедурных карт, их применение для создания материалов.

18. Тонкая настройка естественного освещения и окружающей среды.

18.1. Ручной контроль экспозиции, динамического диапазона и баланса белого сцены.

19. Фотометрические источники света, их физически точная настройка.

20. Каустика и ее физически точная настройка в сцене.

21. Присваивание нескольких материалов одному объекту, особенности тайлинга текстур и создание карт каналов.

22. Основные шейдеры Mental Ray и их настройка.

23. Создание материалов с подслойным рассеиванием.

24. Создание смешанных и композитных материалов.

25. Снятие карт нормалей и создание разверсток.

26. Зачет.